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新闻资讯

案例钻研:合成路线、固态钻研与杂质节造(幼分子原料药工艺优化)

2026-01-23
|
接见量:
项目类型:幼分子原料药(API)
CMC 关正视点: 合成路线优化、固态钻研及杂质治理

概述

在一项幼分子项目中,新利luck18对 API 的合成路线及固态状态战术进行了重新设计,显著提升了可造作性、安全性和分析节造能力 。在统一的 CMC 框架下,该项目系统整合了工艺化学、固态科学与分析步骤开发工作 。

关键成就

1. 合成路线简化与收率提高:
将关键中央体的合成步骤由 7 步缩减至 4 步,收率从<5%>20%;同时去除了拥有恶臭气味的含硫试剂,并预防了对 SFC 手性分离的依赖 。
2. 稳重的固态状态选择:
通过 XRPD 对比分析和结晶筛选,确定了最优盐型;随后开发定造化结晶工艺,获得高质量单晶,用于结构确证及知识产权(IP)支持 。
3. 杂质与溶剂节造能力提升:
构建涵盖 20 余种结晶与干燥战术的步骤工具箱,有效降低残留溶剂含量;同时优化分析步骤,实现对此前存在重叠问题的有关杂质的清澈分离与有效节造 。

1. 提升效能

路线优化,提高效能.png

1) 线性合成步骤由 12 步削减至 7 步,总收率从<1%>10%,且无需进行硅胶柱纯化 。

2. 削减步骤

削减合成步骤.png

2)新利luck18通过重新设计API 的 CMC工艺,将关键中央体的合成路线由 7 步缩减至 4 步,并将收率从不及 5% 提高到超过 20% 。

固态钻研平台

1)盐型与晶型钻研:

对分歧盐型进行 XRPD 对比(如盐酸盐与苹果酸盐)

盐和晶体-1.png

盐和晶体-2.png

2)晶型钻研:

比力传统与新型结晶步骤,以获得可用于结构解析的单晶 。

晶体大局.png

溶剂残留与杂质节造

1)溶剂残留去除:选取 20 余种经典及自主开发的步骤削减溶剂残留 。

溶剂残留去除.png

2)API 分析步骤开发:

API 分析步骤.png

原始分析步骤光谱

原始分析步骤光谱.jpg

有关杂质无法齐全分离

分析步骤优化后的光谱

分析步骤优化后的光谱.jpg

有关杂质能够被有效分离

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